莱特莱德·水处理
莱特莱德·超纯水设备 专业PPT级电子级超纯水服务商
全国解决方案定制热线

专注EDI超纯水设备研发生产
新闻中心
NewsColumns
联系我们
wtxd Contact
当前位置:首页 > 超纯水技术 > 半导体行业用超纯水设备特点说明

半导体行业用超纯水设备特点说明

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2015-09-02 10:40:45

  半导体行业用超纯水设备主要应用于半导体行业用水,该设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成,可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质,出水电阻率可以达到18兆欧以上,完全满足半导体行业用水需求。

超纯水设备

  半导体行业用超纯水设备工艺

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

  2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

  3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

  4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

超纯水设备

  半导体行业用超纯水设备特点

  1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。

  2、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能。

  3、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率。

  4、能耗低、水利用率高、运行成本低。

  5、结构合理,占地面积少。

  6、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命。

  7、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效。

  8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

超纯水设备

  半导体行业用超纯水设备性能优势明显,能够连续稳定的制备品质优良的超纯水,不会因为树脂再生而停止运行,超纯水装置结构设计相对靠紧,占地面积小,可以为企业节省很多空间。

  相关推荐:EDI电子超纯水设备预处理单元特点