半导体行业用超纯水设备特点说明

　　半导体行业用超纯水设备主要应用于半导体行业用水，该设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。

　　半导体行业用超纯水设备工艺

　　1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

　　2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

　　3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

　　4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

　　半导体行业用超纯水设备特点

　　1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。

　　2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　4、能耗低、水利用率高、运行成本低。

　　5、结构合理，占地面积少。

　　6、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　7、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

　　8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

　　半导体行业用超纯水设备性能优势明显，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，超纯水装置结构设计相对靠紧，占地面积小，可以为企业节省很多空间。