莱特莱德超纯水设备在半导体行业的应用

　　半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料，在半导体加工过程中需要使用水进行处理，该水质的要求比较高，不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术，有效去除水中杂质，保证设备的出水水质。

　　电子半导体超纯水设备通常由多介质过滤器，活性炭过滤器，精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱设有液位控制系统、水泵设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用模块化组合PLC及通信远程输送至中控室上位机，实现现场就地和集中控制两种操作方式，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

　　莱特莱德在半导体行业产品清洗用超纯水设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+抛光混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水出水水质电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用先进可靠产品，采用PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。

　　莱特莱德半导体行业应用的超纯水设备优势：

　　1、系统采用新的水处理技术双级RO+EDI+混床模块化设计，严格按新技术设计标准，确保水质稳定，长效运行。

　　2、通过专业技术设计，确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。

　　3、通过专业技术保证终端出水恒压、水质稳定。

　　4、通过完善的技术，较大限度的提高系统回收率，降低能耗和运行成本。

　　5、采用海德能ESPA2超低压膜，运行稳定，能耗低。

　　6、采用pH调节系统以确保水温下降或原水pH值偏低时EDI出水水质。

　　7、配备专门的有化学清洗系统，可定期对反渗透进行化学清洗，以确保系统稳定运行。

　　8、配备浓水置换专业技术，防止膜系统受到微生物污染。

　　9、EDI及后段出水采用超纯水专用管道，较大限度的保证出水水质。

　　10、EDI水箱采用氮封装置，以确保终端水质稳定及延长核能混床寿命。

　　11、采用PLC加触摸屏控制系统，并采用进口电气原件，操作方便，运行稳定。

　　莱特莱德超纯水设备是在反渗透处理设备之后出现的水处理用设备，该设备的出现取代了传统的离子置换设备，并且有着出水质量高、资金投入少、操控简单、设备体积小等优点。