莱特莱德PCB电镀涂装行业超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。...

莱特莱德超纯水设备根据芯片用水要求，采用全自动电去离子超纯水处理技术，前置预处理配套使用加反渗透处理，有效去除水中各种盐份及杂质，进一步提升水质，出水水质完全符...

莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。...

该系统具有出水质量高、连续生产、使用方便、无人值守、不用酸碱、不污染环境、占地面积小和运行经济等一系列优点，被称为“绿色”脱盐系统。...

莱特莱德超纯水设备生产的超纯水的电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，完全符合集成电路清洗用水要求。...

莱特莱德超纯水是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水，这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，完全满足芯片生产用水需求，解决了我国当下的“芯”难题。...

莱特莱德超纯水设备具有良好的应用价值，可实现自动控制，在一定程度上可以有效地达到我国电子水质标准，具有自动化程度高，过程易实现自动控制，产水水质稳定等优势。...

莱特莱德超纯水设备采用反渗透水处理设备与电去离子设备及抛光混床相结合的方式来制取超纯水，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保、经济、发展潜力巨大的超纯水制备...

随着半导体行业技术的迅猛发展，集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段，集成电路芯片制造工艺中所要求的芯片表面的洁净度越来越高，为了保证芯片材料表面的洁净度，集成电路...

莱特莱德采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。系统集成度高，双操作系统，更高系统稳定性。可连续，稳定...

超纯水是半导体元件中用水的重要保障，莱特莱德超纯水设备严格遵循《电子级水GB-T11446.1-2013》超纯水标准，采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子...

为了EDI超纯水系统能够正常的运行，要保证系统的运行压力在一定的范围内，不要对系统造成损坏。...

单晶硅超纯水设备经过长时间的使用后，不可避免的会发生细菌滋生的问题，细菌滋生不仅会影响设备的产水水质，还会对设备产生影响，那么，如何防止单晶硅超纯水设备细菌滋生...

半导体超纯水设备在制取超纯水的过程中有一个很重要的步骤就是通过反渗透膜去除水中的杂质，长期使用后反渗透膜也会因为一些原因被堵塞，这就是我们常见的半导体超纯水设备...