莱特莱德超纯水设备采用何种工艺助力芯片产业提高产能？

 　　如今，手机已然成为一种生活“必需品”了，手机的更新换代也是飞快，芯片短缺的问题同样影响着手机的生产。据相关专家统计，目前全球芯片的需求比产能高约10%～30%，为了更好地解决这一问题，只有不断提高芯片生产产能。

　　芯片生产的产能的提高也就意味着相关行业的产能也在提高，其中制造过程中需要清洗的超纯水也是一样。在芯片生产过程中，几乎每道工序都需要超纯水清洗，为了更好地供应芯片制造清洗用水的需求，超纯水设备也在增加生产力度。

　　莱特莱德超纯水设备摒弃了传统工艺，采用膜分离技术，应用反渗透工艺与EDI和精处理混床工艺来生产超纯水，不仅产水量增加，出水电导率可达18.2mΩ， 满足了芯片行业用水需求。莱特莱德超纯水设备采用的工艺介绍如下：

　　1、反渗透工艺，利用反向渗透原理，有效除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等，降低水质的离子含量。

　　2、EDI模块，无需酸碱再生，运行成本低，EDI系统的自动化程度很高，可以连续工作，出水水质好且稳定，出水电阻率≥15MΩ·CM。

　　3、抛光混床，专门用于高纯度的水处理系统中的终端精制器，能够将水中的离子含量降到PPB级别，出水电阻率可达18.2MΩ·CM。

　　为了更好地服务于芯片制造业，莱特莱德可为客户量身定制专属工业电子超纯水系统。在保证出水达标的同时，考量日常使用方便性、耗材更换方便性、扩建前瞻预判等细节，真正实现量身定制。

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