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超纯水生产设备工艺对电子时代的贡献

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-07-31 15:37:25

  自从我们的地球进入二十一世纪以来,人类文明便进入到了高度文明的电子信息时代,我们现在的生活中每天都离不开电子产品,伴随着近年来我国科学技术的飞速发展,高新技术产业比重越来越中。其中的电子行业占主要部分,而半导体同样是占有重要位置。半导体清洗用超纯水生产设备主要作用,能让出水水质达到国内外的各项标准。

  半导体清洗用超纯水处理工艺流程

  任何设备中的整体工艺流程非常严谨,需要不同程序相互配合。半导体清洗用超纯水的水质也要有严格要求,原水经过南方泵的加压进入四级预处理装置,预处理能去除水中的铁锈、大颗料物质。最后经过双极反渗透装置可以进一步去除水中的杂质,最后经过半导体清洗用超纯水处理工艺最后一道工序微孔过滤器来对水进行深度处理使水达到用水要求。

  半导体清洗用超纯水标准

  关于超纯水设备的出水水质有很多标准,对于不同企业生产过程中所用到的纯水水质也有所不同。半导体行业要遵循我国电子工业的相关标准,并且还要达到一些国外的水质标准等。而且还能达到美国ASTM标准和德国、日本等标准,并且水质稳定不会造成二次污染。

  半导体清洗用超纯水生产设备特点

  电子技术的发展对于人们日常生活有很大的影响,其中最不可缺少的半导体领域越来越受到重视。半导体清洗用超纯水设备中的RO膜孔径小至纳米级,采用双级反渗透超过国家实验室一级用水标准。

  如今已经进入到了离不开电子信息的时代,电子产品越来越重要,半导体清洗用超纯水生产设备对于其主要产品的生产过程,起着非常重要的辅助作用。

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