电镀清洗用超纯水解决方案

　　工业清洗中一般采用超纯水作为清洗用水，经过处理的超纯水中电解质几乎全部去除，水中不溶解的胶体物质、微生物、微粒、有机物、溶解气体降至很低程度，是经过膜过滤或混合床等终端精处理的水。在我国，电子工业部把目前工业超纯水水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

　　电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产电子管阴极涂敷碳酸盐配液显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等。

　　超纯水制备通常采用反渗透，去离子或电去离子(EDI)等工艺。在水质要求达10MΩ.cm以上，通常采用不同的工艺进行组合搭配的方法来制取，例如采用反渗透加去离子，反渗透加EDI等。蓄电池用水一般采用10兆欧以上的工业超纯水(电导率低于0.1us/cm)这种纯水的制备大都采用一级反渗透再后面加电去离子(EDI)设备，也有采用反渗透作一级处理，后面再离子设备来制取超纯水，但后级必须用抛光离子树脂作后级处理。两种工艺比较而言，采用反渗透加电去离子工艺初投资较大，但设备维护简便，节能环保，而且运行稳定。

　　电镀超纯水设备工作原理：

　　原水箱-增压泵-石英砂过滤器-活性炭过滤器-软水器-RO主机-纯水箱-增压泵-紫外线杀菌器-膜滤器-EDI系统-15兆欧用水点

　　原水箱-原水增压泵-石英砂过滤器-活性炭过滤器-保安过滤器-一级RO主机-一级纯水箱-EDI系统-混床增压泵-再生式混床-18MΩ·CM用水点

　　我公司生产的电镀超纯水设备采用先进的工艺及优质的解决方案因为产水水质较高，对于电镀用有助于镀料均匀分布，对于清洗可以使清洗结果达到适宜状态，使产品的光洁度和保质效果更好。