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莱特莱德超纯水设备采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。...
超纯水设备主要采用预处理、反渗透技术、EDI模块以及后级处理等方法，几乎可去除水中的导电介质，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度，从而达到国家规定标准。...
莱特莱德生产的EDI超纯水设备，主要采用的是两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，可以确保处理后的超纯水水质电阻率达到18.2MΩ.cm。...
在高频的运行过程中，超纯水设备也会出现一些“插曲”，而在这些插曲中维护清洗问题尤为重要。...
莱特莱德生产的超纯水处理设备，水质电阻率达到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...
超纯水是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.2MΩ*cm...
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