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专注EDI超纯水设备研发生产
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EDI超纯水设备为大力推进光伏发电提供后勤保障

超纯水制备采用反渗透技术+EDI超纯水设备+抛光混床系统,其出水阻力可达18mΩ·cm(25℃),具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等特点。...

让我们一起来揭开超纯水设备“神秘的面纱”吧

超纯水设备具有连续运行性,不需要再生产;结构紧凑、管理分布合理、简单;无酸碱处理,节能环保;采用洁净循环管道,确保系统内无死水。...

光伏产业联手超纯水系统助力能源转型

超纯水系统采用反渗透技术+EDI+抛光混床系统制备超纯水。它是一种纯物理过程的制备技术。其出水电阻可达18mΩ·cm(25℃),具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定...

有了超纯水的灌溉 国产芯片正在“全面开花”

超纯水是指电阻率为18MΩ·cm(25℃)的水,除水分子外几乎没有杂质,完全满足芯片生产用水需求。...

芯片超纯水设备助力行业突破ASIC专用芯片困境

莱特莱德经常采用反渗透工艺,或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2MΩ,满足芯片行业用水需求。...

超纯水设备晶圆生产制造提供强有力支撑

电子晶圆行业超纯水设备现阶段正从晶圆的基本水平起,执行维护晶圆纯净度的岗位职责,不断平稳地制取达到晶圆生产制造需用的超纯水系统,产水量电导率可达18MΩ·CM(25℃)。...

半导体纯水系统确保半导体生产过程中清洗水质量

EDI超纯水设备用以生产制造纯水,不用再造化工品,运作低成本。EDI系统自动化程度高,可以连续工作。出水量水体优良平稳,出水量电阻低≥15mΩ·cm。...

超纯水设备生产制造到光伏产业自来水要求

莱特莱德超纯水设备选用膜分离技术加工工艺,可以确保出水水质平稳,自动式的运作方法可以节约人力、控制成本,出水水质平稳实现了国家饮用水的规范。...

半导体产业发展 超纯水设备受青睐

莱特莱德半导体行业超纯水设备包括预处理系统、超滤系统、软化系统、反渗透系统、EDI系统、终端给水系统等六大系统。具有平面布置合理高效,纯水供回水管路上设置电导率及流...

莱特莱德超纯水设备成就“芯”时代

莱特莱德EDI超纯水设备产出超纯水电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃),可完全应用于芯片制造业。未来,不仅仅是科技时代,更是环保绿色的时代。...

单晶硅清洗应用超纯水设备的优势

莱特莱德单晶硅清洗超纯水设备采用双级反渗透、EDI、抛光混合床相结合的制水工艺,具有水利用率高、运行可靠、经济合理等特点。...

超纯水VS蒸馏水的区别 你造吗!

超纯水,其标准是水电阻率为18.2MΩ-cm。超纯水除了水,离子含量接近无,是一种强氧化剂,容易被空气二次污染,即使储存,电阻率也下降得很快。...

莱特莱德超纯水设备“点亮”中国“芯”

莱特莱德超纯水设备采用EDI技术,减少污染,满足绿色环保工艺生产的特点,与其他同类产品相比,具有更高的性价比和设备可靠性,助力“点亮”中国“芯”。...

单晶硅超纯水设备提供高效技术支持,位居行业前列

莱特莱德单晶硅超纯水设备采用RO反渗透+EDI或混床抛光技术,可根据不同用户的需要,为不同水质、不同水量、不同水质要求而定制设计的超纯水设备,其水质稳定、操作简单、运行成本...

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