超纯水设备主要采用预处理、反渗透技术、EDI模块以及后级处理等方法，几乎可去除水中的导电介质，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度，从而达到国家规定标...

莱特莱德生产的EDI超纯水设备，主要采用的是两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，可以确保处理后的超纯水水质电阻率达到18.2MΩ.cm。...

在高频的运行过程中，超纯水设备也会出现一些“插曲”，而在这些插曲中维护清洗问题尤为重要。...

莱特莱德生产的超纯水处理设备，水质电阻率达到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...

超纯水是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电...

芯片行业用水的合格与否是产品能否以质量取胜的关键，芯片超纯水设备可以为芯片行业提供高质量的超纯水支持。...

莱特莱德超纯水设备能够连续稳定地制备高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。...

莱特莱德超纯水设备，超纯水精度可达美标E1.3。采用膜表面嫁接技术达到更好的脱盐率，PLC智能化程序方便灵活操作，节省人力投入，为芯片行业贡献了一份力量!...

EDI超纯水设备采用膜分离技术与EDI连续电解除盐技术，全程自动化操作节省人力，出水水质能够稳定达标，水质标准能够达到18兆欧，满足了芯片生产用水需要。...

莱特莱德EDI超纯水设备能够连续稳定地制备高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。...

莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水，该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长)，运...

EDI处理装置废水产量少，不会污染环境，具有很高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。...

EDI超纯水设备作为一种生产超纯水的新工艺，采用反渗透设备+EDI+抛光混床工艺，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业的用水需求。...

莱特莱德芯片生产用超纯水设备通常由石英砂过滤器、活性炭过滤器、阻垢剂、精密过滤器等构成预处理系统，RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主设备系...