超纯水制备采用反渗透技术+EDI超纯水设备+抛光混床系统，其出水阻力可达18mΩ·cm(25℃)，具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等特点。...

超纯水是指电阻率为18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外几乎没有杂质，完全满足芯片生产用水需求。...

莱特莱德经常采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。...

电子晶圆行业超纯水设备现阶段正从晶圆的基本水平起，执行维护晶圆纯净度的岗位职责，不断平稳地制取达到晶圆生产制造需用的超纯水系统，产水量电导率可达18MΩ·CM(25℃)。...

莱特莱德EDI超纯水设备产出超纯水电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，可完全应用于芯片制造业。未来，不仅仅是科技时代，更是环保绿色的时代。...

莱特莱德超纯水设备采用EDI技术，减少污染，满足绿色环保工艺生产的特点，与其他同类产品相比，具有更高的性价比和设备可靠性，助力“点亮”中国“芯”。...

莱特莱德单晶硅超纯水设备采用RO反渗透+EDI或混床抛光技术，可根据不同用户的需要，为不同水质、不同水量、不同水质要求而定制设计的超纯水设备，其水质稳定、操作简单、运行成本...

莱特莱德公司结合膜分离技术，采用反渗透结合EDI装置和精混床的工艺制备超纯水，其出水电阻率可达18MΩ·cm(25℃)，有助于中国“芯”的发展。...

超纯水设备采用反渗透工艺，或采用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床生产超纯水，以确保出水水质符合行业标准，满足芯片行业用水需求。...

随着纯水制备工艺的不断进步，传统的阴阳离子交换工艺逐渐被反渗透系统所取代，而传统的混合离子交换逐渐被电去离子EDI装置所取代。反渗透+EDI强强联合制备超纯水。...

超纯水市场的发展方向，很大程度上取决于国家整体经济的发展方向。超纯水技术日臻完善与成熟，超纯水设备备受追捧，超纯水行业迎来了春天。...

超纯水设备制备出的高品质超纯水才能帮助芯片提高产品品质，从而帮助芯片更好地应用到有需要的领域中。...

超纯水处理设备采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。...

莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置结合混床模块化设计工艺来制备超纯水，其出水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...