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EDI超纯水设备为大力推进光伏发电提供后勤保障

超纯水制备采用反渗透技术+EDI超纯水设备+抛光混床系统,其出水阻力可达18mΩ·cm(25℃),具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等特点。...

有了超纯水的灌溉 国产芯片正在“全面开花”

超纯水是指电阻率为18MΩ·cm(25℃)的水,除水分子外几乎没有杂质,完全满足芯片生产用水需求。...

芯片超纯水设备助力行业突破ASIC专用芯片困境

莱特莱德经常采用反渗透工艺,或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2MΩ,满足芯片行业用水需求。...

超纯水设备晶圆生产制造提供强有力支撑

电子晶圆行业超纯水设备现阶段正从晶圆的基本水平起,执行维护晶圆纯净度的岗位职责,不断平稳地制取达到晶圆生产制造需用的超纯水系统,产水量电导率可达18MΩ·CM(25℃)。...

莱特莱德超纯水设备成就“芯”时代

莱特莱德EDI超纯水设备产出超纯水电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃),可完全应用于芯片制造业。未来,不仅仅是科技时代,更是环保绿色的时代。...

莱特莱德超纯水设备“点亮”中国“芯”

莱特莱德超纯水设备采用EDI技术,减少污染,满足绿色环保工艺生产的特点,与其他同类产品相比,具有更高的性价比和设备可靠性,助力“点亮”中国“芯”。...

单晶硅超纯水设备提供高效技术支持,位居行业前列

莱特莱德单晶硅超纯水设备采用RO反渗透+EDI或混床抛光技术,可根据不同用户的需要,为不同水质、不同水量、不同水质要求而定制设计的超纯水设备,其水质稳定、操作简单、运行成本...

两大重点项目落户锡山 超纯水助力中国“芯”发力

莱特莱德公司结合膜分离技术,采用反渗透结合EDI装置和精混床的工艺制备超纯水,其出水电阻率可达18MΩ·cm(25℃),有助于中国“芯”的发展。...

工业超纯水设备助力行业破局“缺芯”难题

超纯水设备采用反渗透工艺,或采用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床生产超纯水,以确保出水水质符合行业标准,满足芯片行业用水需求。...

反渗透+EDI“无中生有” 强强联合制备超纯水

随着纯水制备工艺的不断进步,传统的阴阳离子交换工艺逐渐被反渗透系统所取代,而传统的混合离子交换逐渐被电去离子EDI装置所取代。反渗透+EDI强强联合制备超纯水。...

进军超纯水市场时机成熟 超纯水行业迎来春天

超纯水市场的发展方向,很大程度上取决于国家整体经济的发展方向。超纯水技术日臻完善与成熟,超纯水设备备受追捧,超纯水行业迎来了春天。...

超纯水设备帮助芯片提高产品品质

超纯水设备制备出的高品质超纯水才能帮助芯片提高产品品质,从而帮助芯片更好地应用到有需要的领域中。...

超纯水设备守护计算机的“大脑”

超纯水处理设备采用积木式结构,可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计,使EDI在生产工作时能方便维护。...

汽车芯片迎来发展机遇 超纯水设备助力行业发展

莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术,采用反渗透、EDI装置结合混床模块化设计工艺来制备超纯水,其出水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃),符合芯片制造用水要求。...

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