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半导体材料清洗用水为何选用超纯水设备?

文章出处:莱特莱德作者:莱特莱德发表时间:2022-09-30 10:55:18

  随着智能化、5G技术、新能源汽车等科技的进步,对于半导体的需求也在逐渐上涨。在我国“十四五”规划期间,明确了将培育集成电路产业体系、大力推进先进半导体等新兴前沿领域创新和产业化作为近期发展重点。

  半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水,可用于清洗,该超纯水电阻率达到了18兆欧,不含导电介质和金属离子,可满足作为半导体清洗用水的需求。

  莱特莱德超纯水设备采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,处理后的水质可达到18MΩ.CM以上,符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术,可有效去除水中的导电介质,以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物,设备的出水纯度高,无病毒与细菌,不含任何悬浮物、无化学污染,产出的可谓是高品的超纯水了。设备还设有在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,在无人值守的状态下也可平稳运行。

  综上,莱特莱德超纯水设备满足了半导体清洗用水需求。并且设备的设计较为紧凑,占地空间小,在出厂前会进行严格的检验,以确保设备无故障,在日常维护和操作过程种也是非常简单。总体来说莱特莱德一直专注电子超纯水领域,是集研发设计、设备制造、工程施工、运营维护为一体的环保解决方案服务商。