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EDI超纯水设备满足芯片生产用水的需求

2023-01-28

　　芯片作为一种高精度的电子元件，具有集成度高、生产线窄、水质要求高的特点。传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂，需要树脂再生，既消耗材料资源又消耗劳动力。经过多年实践，结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置和混合床模块化设计工艺制备超纯水，出水电阻率可达到18mΩ*cm(25℃)，满足芯片制造用水要求，为芯片成品质量提供有力保证。

　　芯片超纯水设备几乎可以完全去除水中的导电介质，并在很低程度上去除水中未分离的胶体物质、气体和有机物。在制备超纯水的过程中，无需酸碱再生，去除有害物质，减少繁琐的工艺程序，稳定连续生产18.2mΩ·CM超纯水，满足芯片生产用水的需要。

EDI超纯水设备

　　超纯水设备配备专业的浓水置换技术，可有效防止膜系统被微生物污染。通过完善的技术提高系统回收率，降低能耗和运行成本。莱特莱德专注于电子超纯水领域，是一家集研发设计、设备制造、工程施工、运行维护为一体的环保解决方案服务提供商。除芯片行业外，该设备还广泛应用于电力、造纸、日常化工等领域。

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