半导体行业用超纯水设备设计标准

　　半导体行业用超纯水设备特点繁多，技术先进、质量可靠，满足了不同行业的用水需求，随着技术的进步，应用的范围也就越来越广。

超纯水设备

　　半导体行业用超纯水设备工艺

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光树脂→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光树脂→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

　　3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)

　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

超纯水设备

　　半导体行业用超纯水设备设计优势

　　(1)通过专业技术设计，确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。

　　(2)通过专业技术保证终端出水恒压、水质稳定。

　　(3)通过完善的技术，最大限度的提高系统回收率，降低能耗和运行成本。

　　(4)采用ESPA2超低压膜，运行稳定，能耗低。

　　(5)采用PH调节系统以确保水温下降或原水PH值偏低时EDI出水水质。

　　(6)配备专门的有化学清洗系统，可定期对反渗透进行化学清洗，以确保系统稳定运行。

　　(7)配备浓水置换专业技术，防止膜系统受到微生物污染。

超纯水设备

　　(8)EDI及后段出水采用超纯水专用管道，大限度的保证出水水质。

　　(9)半导体行业用超纯水设备系统采用新水处理技术双级RO+EDI+混床模块化设计，严格按新技术设计标准，确保水质稳定，长效运行。

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