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电子半导体行业用超纯水设备制备工艺

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2016-02-06 13:56:59

  电子半导体行业用超纯水设备需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。电子半导体的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

超纯水设备

  电子半导体行业用超纯水设备工作原理

  1、水进入纯化系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿模板外侧流动,以洗去透出膜外的离子。

  2、树脂截留水中的溶存离子。

  3、被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动。

  4、阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外。

  5、阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外。

  6、浓缩了的离子从废水流路中排出。

  7、去离子水从树脂/膜内流出。

超纯水设备

  电子半导体行业用超纯水设备制备工艺

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

  2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

  3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

  4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

超纯水设备

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