集成电路生产用超纯水设备工艺解析

　　集成电路生产用超纯水设备顾名思义主要应用于集成电路生产用水，该设备引进国外进口元件，结合国内外制水经验，选用先进的反渗透技术和EDI技术相结合，有效去除水中的各种杂质。集成电路生产用超纯水设备具有出水水质好，操作简单，制水效果明显等特点。

　　集成电路生产用超纯水设备工艺

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光树脂→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光树脂→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

　　3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)新工艺)

　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

　　集成电路生产用超纯水设备特点

　　1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。

　　2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　4、能耗低、水利用率高、运行成本低。

　　5、结构合理，占地面积少。

　　6、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　7、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

　　8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

　　集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水设备工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。