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超纯水的获得并非易事，它依赖于一系列精密的过滤和净化技术。通过采用EDI(电去离子)、反渗透膜技术以及抛光混床技术的集成系统，确保了超纯水的高品质与稳定性。...
超纯水，定义为电阻率超过18 MΩ*cm，几乎不含有任何杂质的水，是半导体制造中最为严苛的用水标准。...
超纯水设备通过精密的反渗透、EDI以及抛光混床技术，实现了对水中离子、有机物、颗粒物等杂质的深度去除，确保了供给芯片制造的超纯水具有极高的纯度。...
超纯水设备生产超纯水具有出水连续稳定、能耗低、无污染、自动化强等优势。它采用了“反渗透+EDI+抛光混床”的技术设计，严格执行超纯水生产标准，出水质量稳定，能达到18MΩ*cm(25℃)。...
EDI超纯水设备采用了“双级反渗透+EDI”的结合工艺，出水水质电阻率可达16MΩ*cm(25℃)。它结合了膜分离技术，通过利用反渗透膜对离子类物质的强大过滤能力，可以充分去除超纯水中含有的金属离子、矿...
超纯水设备采用的这套组合工艺，具有出水连续、水质稳定、能耗低、无污染、自动化等优势。...
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