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在当今高度发达的科技时代，集成电路作为现代电子设备的核心组件，其生产过程的精密性和复杂性达到了前所未有的水平。集成电路的性能直接决定了电子产品的效率、可靠性和微...
超纯水，即电阻率高达18MΩ*cm以上的水，几乎不含任何杂质，是芯片清洗、光刻、蚀刻等工艺中不可或缺的溶剂。它能有效去除芯片表面的微小颗粒和有机物残留，防止污染物影响电路的完整性和电性能，从而保障...
EDI技术作为制备超纯水的先进手段，以其高效、环保的特点，在超纯水制备领域占据了举足轻重的地位。...
超纯水的获得并非易事，它依赖于一系列精密的过滤和净化技术。通过采用EDI(电去离子)、反渗透膜技术以及抛光混床技术的集成系统，确保了超纯水的高品质与稳定性。...
超纯水，定义为电阻率超过18 MΩ*cm，几乎不含有任何杂质的水，是半导体制造中最为严苛的用水标准。...
超纯水设备通过精密的反渗透、EDI以及抛光混床技术，实现了对水中离子、有机物、颗粒物等杂质的深度去除，确保了供给芯片制造的超纯水具有极高的纯度。...
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