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超纯水设备可生产出芯片生产过程中的清洗用水超纯水，保证了芯片的良品率。...
超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃)，满足半导体生产用水的需求。...
超纯水设备采用双反渗透、EDI、抛光混合床相结合的制水工艺，具有水利用率高、运行可靠、经济合理等特点。...
莱特莱德生产的EDI超纯水设备，主要采用的是两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，可以确保处理后的超纯水水质电阻率达到18.2MΩ.cm。...
莱特莱德生产的超纯水处理设备，水质电阻率达到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...
莱特莱德超纯水设备能够连续稳定地制备高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。...
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