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现在的超纯水生产工艺大多采用反渗透设备+EDI+抛光混床，无需再生药剂，有效降低了运行成本。汽车芯片用超纯水设备生产的水质电阻率可以达到18MΩ·CM，满足汽车芯片用水的需求。...
经过多年实践，莱特莱德结合采用反渗透、EDI装置结合抛光混床的模块化设计工艺制备超纯水，其水电阻率高达18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有环保、经济、发展潜力巨大等诸多优点...
锂电池超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超净化处理和后处理方法，几乎完全去除水中的导电介质，并将水中的非游离胶体物质、气体和有机物去除到很低的程度。...
半导体行业在生产的时候需要大量的清洗水，随着半导体工业的不断发展，对清洗水的电导性、离子含量、TOC、DO、Particles要求也越来越严格。...
超纯水设备作为芯片生产过程中的标准设备，通常采用反渗透水处理设备、电离子(EDI)设备和抛光混合床制造超纯水，使其出水满足芯片生产用水的需求，成为芯片产业复兴的坚强后盾。...
莱特莱德单晶硅超纯水设备采用RO反渗透+EDI或混床抛光技术，根据不同用户的需求，定制设计不同水质要求和不同水流量要求的超纯水设备，具有水质稳定、操作简便、运行成本低、绿色环保、易于维护等优点...
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