
电子晶圆行业超纯水设备现阶段正从晶圆的基本水平起,执行维护晶圆纯净度的岗位职责,不断平稳地制取达到晶圆生产制造需用的超纯水系统,产水量电导率可达18MΩ·CM(25℃)。...

莱特莱德EDI超纯水设备产出超纯水电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃),可完全应用于芯片制造业。未来,不仅仅是科技时代,更是环保绿色的时代。...

莱特莱德单晶硅超纯水设备采用RO反渗透+EDI或混床抛光技术,可根据不同用户的需要,为不同水质、不同水量、不同水质要求而定制设计的超纯水设备,其水质稳定、操作简单、运行成本低、绿色环保、易维护...

莱特莱德公司结合膜分离技术,采用反渗透结合EDI装置和精混床的工艺制备超纯水,其出水电阻率可达18MΩ·cm(25℃),有助于中国“芯”的发展。...

超纯水设备采用反渗透工艺,或采用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床生产超纯水,以确保出水水质符合行业标准,满足芯片行业用水需求。...

随着纯水制备工艺的不断进步,传统的阴阳离子交换工艺逐渐被反渗透系统所取代,而传统的混合离子交换逐渐被电去离子EDI装置所取代。反渗透+EDI强强联合制备超纯水。...

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