单晶硅超纯水设备的日常维护保养方法

　　我国是消费电子产品的生产国、出口国和消费国，在国家政策的扶持下，我国众多电子企业纷纷开发硅晶圆研发新工艺，这也标志着我国硅晶圆产业有望进入黄金期。单晶硅是一种半导体材料，其导电能力介于导体和绝缘体之间，主要应用于太阳能电池行业，是在现代电子产品的基础材料之一。但硅晶圆对纯度要求极高，因此对于水质也有着超高的要求，超纯水设备生产的水质可满足行业用水需求。

　　超纯水设备一般采用预处理+反渗透+EDI(混床)组合形式，具有使用寿命长、技术先进、可自我保护、高效低耗能、运行成本低，水利用率高、体较小、维修量小，运行的时间长久等优势从根本上提升出水水质，并且延长工作周期，帮助企业实现稳定的生产，其工艺流程如下：

　　原水进入超纯水系统后，主要部分流入膜元件内，另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。接下来膜元件截留下水中的溶存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。之后阳离子透过阳离子膜被排出，阴离子透过阴离子膜被排出，被浓缩的离子从废水流路中排出，最后去离子水从膜内流出。

　　单晶硅用超纯水设备在长时间工作后，如果不定期进行维护，就很容易被污染，今天介绍这篇单晶硅用超纯水设备的维护方法，建议您全文背诵。

　　1、将专用清洗液与纯净水在清洗药箱内混合。

　　2、用清洗泵低流量将清洗液以低流速、低压力打至反渗透系统，并排走原水，防止清洗液稀释。

　　3、保持设备温度稳定，用清洗泵将清洗液在系统中循环。

　　4、清洗液在设备内浸泡一小时即可，污染较严重的反渗透膜可进行更长时间的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分钟，使反渗透膜上被洗掉的污染物随高流速水冲走。

　　6、用清水将清洗液冲去。设备冲洗后的清水需要保证pH6.5-7.5之间。

　　莱特莱德超纯水设备采用曲线微导力技术，通过先进的分离技术，将水中的离子与水分离。降低水中离子的含量，达到净化水质及降低水中离子的目的。结合预处理系统(Sanqcar)、加药系统等前处理系统，可实现超纯水的预脱盐目的，其出水满足芯片生产用水的相关标准，降低企业生产的风险和成本。

　　莱特莱德超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了设备的出水水质，与此同时，EDI处理装置废水产出量少，不会对环境造成污染，有非常高的环境效益、经济效益，其发展前景广阔。