超纯水设备满足电子级超纯水制取需求

　　随着现代电子技术的快速发展，电子产品已经成为人们日常生活中必不可少的工具，其中短、小、轻、薄已经成为了电子产品的主要发展方向，这也给电子制造工艺及清洗用水标准带来了很大的挑战：非极性污染物(松香树脂和油等)、极性污染物(助焊剂活性剂和盐等)及颗粒状污染物的残留，会直接造成印制板和元器件表面漏电、短路、断路或形成腐蚀导致失效，必然会影响电子工艺的顺利实施或产品的质量和可靠性。因此，必须在工艺实施的环节中加入清洗工序。我国早在1957年制订了电子级纯水标准，至今要求电子级标准2002年标准为18. 3M Ω . cm (温度25°C )，达到电子级超纯水的理论值。

　　电子级超纯水是指原水中的导电质几乎完全去除，水中不解离的胶体物质、气体、微生物及有机物的含量降至较低的程度。常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等，此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路和真空管等的制作也都要使用超纯水。

　　莱特莱德能够为用户提供更优品质的超纯水，超纯水设备可连续，稳定地生产高纯度的超纯水，有效解决传统工艺中清洗芯片寸在的问题，更好的提升电子芯片的良品率。采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。

　　莱特莱德拥有多项超纯水专用膜核心技术，为用户提供一种智能、能耗低、运行稳定的超纯水制备系统。系统集成度高，双操作系统，更高系统稳定性。日常保养维护简单方便，设备耐用，寿命长。