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电子芯片清洗用超纯水标准及水质要求

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-05-31 11:02:36

  电子芯片清洗对其用水要求极为严格,EDI超纯水设备采用先进技术将原水水质纯度提升,使其满足电子清洗用水标准。

  电子半导体行业水质标准

  我公司电子级EDI高纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准,我国电子工业部电级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ、10MΩ、2MΩ、0.5MΩ.cm),我国电子工业部高纯水质试行标准,美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

  电子工业对水质的要求

  微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成密度越高,对水质的要求也越高。这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了严格的要求。

  为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上,取达到国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使超纯水设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。