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led超纯水设备工艺特点及应用介绍

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-05-08 10:49:09

  led超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。

  led超纯水设备工艺及特点

  预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  led超纯水设备在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

  led超纯水设备选型参考参数

  1、原水水源(自来水,地下水井水,河水,湖水...),除了自来水,其它的水源,需要提供水质报告,水源不一样,处理工艺不一样,费用就有很大的差别;

  2、配置(需要高端配置还是一般配置,就是指水泵有国产的还是进口的,反渗透膜品牌参考);

  3、控制(用PLC全自动控制,还是手动控制);

  4、出水水质要达到什么标准,电阻率要达到多少,有什么用途。

  led超纯水设备应用场合:

  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

  ☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

  ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

  ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

  ☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

  ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

  ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

  ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

  ☆高品质显像管、萤光粉生产

  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

  ☆实验室和中试车间

  ☆汽车、家电表面抛光处理

  ☆光电产品、其他高科技精微产品

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