光电超纯水设备水质标准与流程说明

　　光电超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。核心装置及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

　　光电行业对水质的要求

　　新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

　　光电超纯水设备工作流程

　　●预处理→反渗透→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI水箱→EDI纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象【电阻率15-17MΩ·CM】

　　●预处理→两级反渗透→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI水箱→EDI纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象【≥18MΩ·CM，新工艺】

　　光电超纯水设备原水进入加压泵时要加大水的压力，然后经过能初步净化的四级预处理系统。经过可以去除原水中的胶体、颗粒污染物的多介质过滤器，再进入可以吸附余氯和农药的活性炭过滤器。原水还要在软水器里降低硬度，到达可以去除水垢的精密过滤器。上述为预处理系统原水就可以到达RO加EDI主机，除去其中的细菌、杂质等。最后经过紫外线消毒器的杀菌灭藻，到达微孔过滤器精滤就可以制取出超纯水了。