晶片切割用水处理设备EDI装置说明

　　与其他行业应用的超纯水装置相同，晶片切割用水处理设备EDI膜块内的树脂并不需要化学再生,就可连续运行;而且不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。

　　当EDI装置应用于晶片切割行业时具有以下特点：

　　1、连续运行,产品水水质稳定;

　　2、容易实现全自动控制;

　　3、无须用酸碱再生;

　　4、不会因再生而停机;

　　5、节省了再生用水及再生污水处理设施;

　　6、产水率高(可达95%);

　　7、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施;

　　8、占地面积小;

　　9、使用安全可靠,避免工人接触酸碱;

　　10、降低运行及维护成本;

　　11、设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施;

　　12、安装简单、费用低廉;

　　13、设备初投资大。

　　应用于晶片切割中的EDI与混床对比

　　(1)产水水质比较

　　EDI装置是一个连续净水过程,因此其产品水水质稳定,电阻率可达18.25MΩ·cm,达到超纯水的指标。混床离子交换设施的净水过程是间断式的,在刚刚被再生后,其产品水水质较高,而在下次再生之前,其产品水水质较差。

　　(2)投资量比较

　　与混床离子交换设施相比EDI装置投资量要高约20%左右,但从混床需要酸碱储存、酸碱添加和废水处理设施及后期维护、树脂更换来看,两者费用相差在10%左右。随着技术的提高与批量生产,EDI装置所需的投资量会大大的降低。另外,EDI装置设备小巧,所需厂房远远小于混床。

　　(3)运行成本比较

　　EDI装置运行费用包括电耗、水耗、药剂费及设备折旧等费用,省去了酸碱消耗、再生用水、废水处理和污水排放等费用。

　　在电耗方面,EDI装置约0.5kWh/t水,混床工艺约0.35kWh/t水,电耗的成本在电厂来说是比较经济的,可以用厂用电的价格核算。

　　在水耗方面,EDI装置产水率高,不用再生用水,因此在此方面运行费用低于混床。

　　至于药剂费和设备折旧费两者相差不大。

　　总的来说,在运行费用中,EDI装置吨水运行成本在1.8元左右,常规混床吨水运行成本在3.2元左右,高于EDI装置。因此,EDI装置多投资的费用在1-2年内完全可以回收。