半导体原材料清洗用纯水设备进行预处理的条件有哪些

　　一套好的水处理设备主要看设备的预处理，原水可以通过预处理将水中的漂浮物过滤除去，同时也可以对原水中的大量细菌进行杀菌工作，防止细菌的繁殖。原水经过这些处理会使半导体原材料清洗用纯水设备流水变得顺畅，也降低了水中的浓度，下面我们来讲讲半导体原材料清洗用纯水设备中进行预处理的条件：

　　半导体原材料清洗用纯水设备污染指数的检测结果如果小于3为优，大于5为不合格。同时还应测一下水的PH值，应当保证水是中性的。这样在进行半渗透膜的过滤的时候，可以调高过滤的效果。半渗透膜的透水量是随水温的增高而增大，所以在半渗透膜可以承受的范围内，保证溶液的浓度，如果温度过高，可以加快半渗透膜中醋酸纤维素膜的水解，变软。

　　所以对于半渗透膜尤其是有机膜来说，溶液的温度不能超过40摄氏度，复合膜的温度不能超过45摄氏度，有机膜的最低温度为20摄氏度，复合膜的最低温度为5摄氏度。在这样的温度条件下，温度越高越好。

　　上述就是半导体原材料清洗用纯水设备中进行预处理的条件，当然我们还要安装一个检测悬浮物的装置，为了净化水质达到更好的效果。

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