莱特莱德·水处理
莱特莱德·超纯水设备 专业PPT级电子级超纯水服务商
全国解决方案定制热线

专注EDI超纯水设备研发生产
新闻中心
NewsColumns
联系我们
wtxd Contact
当前位置:首页 > 新闻中心 > 相关问题 > 半导体原材料清洗用纯水设备日常使用注意事项

半导体原材料清洗用纯水设备日常使用注意事项

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2019-10-11 14:27:42

  为了确保半导体原材料清洗用纯水设备稳定运行和使用寿命,在日常使用过程中我们应该注意一下事项:

 

  1、产品在使用后如果半导体原材料清洗用纯水设备处于停运时,一定要保持超滤膜滤芯处于湿润状态。如果超滤膜滤芯干化,会导致产超滤膜损坏且无法恢复,造成不必要的损失。

  2、超过三天不使用的半导体原材料清洗用纯水设备,再次使用时应对半导体原材料清洗用纯水设备反复进行顺冲洗2-5分钟,直到设备内的存水排尽为止。

  3、在自来水停水的情况下,请先打开排污水龙头将自来水管内的泥沙、铁锈等排尽后,再打开净化水龙头使用净水。

  4、半导体原材料清洗用纯水设备的总产水量与进水水质有关,如果进水水质较好,则总产水量会上升,反之进水水质差,则总产水量会下降,相应的滤芯使用寿命会略短,所以根据不同的水质设备主机前适当的加上预处理设备,增加膜跟EDI模块的使用寿命,从而节约成本。

  5、经常对半导体原材料清洗用纯水设备进行冲洗,可有效延长设备的使用寿命。

  6、半导体原材料清洗用纯水设备发生故障时请立即关闭自来水进水阀,切断半导体原材料清洗用纯水设备的进水,请不要擅自拆卸设备。

  相关推荐:半导体原材料清洗用纯水设备应用特点有哪些