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芯片清洗少不了超纯水设备

文章出处:作者:莱特莱德发表时间:2022-10-28 15:29:47

  10月18日贤集网消息,随着芯片技术的升级和迭代,光子芯片有望成为新一代信息领域的底层技术支撑。硅光学技术是后摩尔时代的核心技术之一。它是半导体技术和光学技术的结合,它对通信行业的影响将是颠覆性的。光子芯片被认为是曲线超车的方向。下面小编还要带大家了解一个芯片生产的重要环节——芯片清洗。

  超纯水是通过蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适当的超临界精细技术生产的水,用于开发超纯材料(半导体组件材料、纳米陶瓷材料等)。其电阻率大于18 MΩ*cm,或接近18.3 MΩ*厘米(25℃)的极限值。简单地说,它是水,除了氧和氢之外几乎所有的原子。芯片清洗需要超纯水。莱特莱德超纯水设备采用反渗透作为预处理,结合电去离子(EDI)装置和抛光混床工艺。出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准和我国电子工业部电子水质技术标准。

  莱特莱德超纯水设备可在线检测和显示超纯水电阻率,模块化集成设计,安装方便,维护简单,占地面积小,外观设计美观。优质树脂用于增加交换容量,延长耗材的使用寿命。采用LCD数字显示系统。整套设备具有较强的自动化性能。当水被切断或水压不足时,可自动切断电源并停机。同时给出报警提示和多重保护,确保设备稳定运行。电源指示、系统自检指示、泵启动指示、RO自动冲洗指示、缺水保护指示、缺水量报警指示、纯水备用指示均采用动态模式。设备自动化不需要人工维护,设备具有水故障或压力不稳定时自动停机的功能。确保设备能够定期自动清洁和维护,以延长设备的使用寿命。外观可由不锈钢、玻璃纤维增强塑料、碳钢等材料制成,无毒、防污染、耐磨。