芯片清洗少不了超纯水设备

　　10月18日贤集网消息，随着芯片技术的升级和迭代，光子芯片有望成为新一代信息领域的底层技术支撑。硅光学技术是后摩尔时代的核心技术之一。它是半导体技术和光学技术的结合，它对通信行业的影响将是颠覆性的。光子芯片被认为是曲线超车的方向。下面小编还要带大家了解一个芯片生产的重要环节——芯片清洗。

　　超纯水是通过蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适当的超临界精细技术生产的水，用于开发超纯材料(半导体组件材料、纳米陶瓷材料等)。其电阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*厘米(25℃)的极限值。简单地说，它是水，除了氧和氢之外几乎所有的原子。芯片清洗需要超纯水。莱特莱德超纯水设备采用反渗透作为预处理，结合电去离子(EDI)装置和抛光混床工艺。出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准和我国电子工业部电子水质技术标准。

　　莱特莱德超纯水设备可在线检测和显示超纯水电阻率，模块化集成设计，安装方便，维护简单，占地面积小，外观设计美观。优质树脂用于增加交换容量，延长耗材的使用寿命。采用LCD数字显示系统。整套设备具有较强的自动化性能。当水被切断或水压不足时，可自动切断电源并停机。同时给出报警提示和多重保护，确保设备稳定运行。电源指示、系统自检指示、泵启动指示、RO自动冲洗指示、缺水保护指示、缺水量报警指示、纯水备用指示均采用动态模式。设备自动化不需要人工维护，设备具有水故障或压力不稳定时自动停机的功能。确保设备能够定期自动清洁和维护，以延长设备的使用寿命。外观可由不锈钢、玻璃纤维增强塑料、碳钢等材料制成，无毒、防污染、耐磨。