超纯水设备结合膜分离技术，为芯片生产助力

　　据悉，2021年，中芯国际全年营收、第四季度营收和净利润均创历史新高。对此，有关人士表示，这组数据体现了中国在芯片领域的快速崛起。在这种情况下，中国仍在该领域加码、投资布局，相信国产芯片很快就能迎来属于自己的时代。

　　如今，科学技术显然已经成为世界的"主战场”。我国对芯片的需求也越来越高，在众多科研人员的不断努力下，迎来了全新的变革，现在国内的芯片技术已经实现了突破，中国企业已经启用国产芯片，订单需求也实现了十倍增长。

　　芯片的制造过程很复杂，从设计、生产到包装和测试，每一步都非常重要。制造过程中需要解决的问题有耗材、晶圆、光刻胶、超纯水、各种离子等。接下来，我们就来说一说超纯水在芯片生产中的应用。

　　超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃)，满足半导体生产用水的需求。同时，设备还配备了反渗透预脱盐技术，以确保设备的出水水质。同时，EDI处理装置产生的废水较少，不会污染环境，具有较高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。

　　超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守、安装简便、操作方便等优势，出水水质符合电池用水相关标准，为芯片用水保驾护航。随着超纯水设备技术不断完善，开启了各行业生产发展的新局面。许多企业在生产过程中对水质纯度有不同的要求，并得到了广泛的应用，如清洗设备用水、精密产品生产用水、检测用水等。超纯水设备可保证芯片良品率，是芯片生产的重要设备之一。