更优品质超纯水 更好提升芯片良品率

　　根据有关研究报告显示，半导体清洗设备的市场规模有望由2020年的74亿美元增长到2025年的121亿美元，复合增长率达10.3%，远远超过半导体设备的复合增长率。可见，未来清洗设备还有很大的增长空间。随着超纯水需求量的增加，微电子产业的快速发展，将大大促进超纯水工业的发展。

　　超纯水的品质与半导体的良品率直接相关，在电子元件的生产过程中，不管是清洗用水、溶液、浆料，都要采用超纯水。集成电路的生产工艺是蚀刻和清洗反复进行，清洗是半导体加工过程中的一个重要环节，其目的就是清洗可能存在于原材料或半成品中的杂质。由于半导体元件体积小、精度高，对超纯水水质的技术要求也越来越高，在超纯水的生产过程中，只要微粒子、电阻率、TOC以及气泡中一个指标出现略微差异，都会使半导体元件的合格率下降。

　　超纯水是将水中导电介质几乎完全除去，又能使水中不离解的胶体物质、气体和有机物去除到非常低程度的水。其电阻率超过18MΩ·cm，接近18.3MΩ·cm极限值。莱特莱德采用独特的靶向离子交换系统，对超纯水中难于处理的硼和其它离子进行定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。

　　莱特莱德为用户提供优质的超纯水，更好的提高了芯片的良品率。莱特莱德超纯水系统广泛应用于电子芯片、集成电路及封装、二极管、三极管、传感器、电子级氢氟酸、电子级硫酸、电子级双氧水、电子级氨水、高精度线路板、光伏、TFT玻璃基板、晶圆、石英管、超白玻璃、科研、航空航天、高精尖仪表、珠宝加工等领域。