莱特莱德·水处理
莱特莱德·超纯水设备 专业PPT级电子级超纯水服务商
全国解决方案定制热线

专注EDI超纯水设备研发生产
新闻中心
NewsColumns
当前位置:首页 > 新闻中心 > 相关问题 > 国产芯片生产离不开高质量的超纯水

国产芯片生产离不开高质量的超纯水

文章出处:莱特莱德作者:莱特莱德发表时间:2023-01-03 10:11:46

  在近几年科技的不断发展与进步中,我国国产芯片的成长速度也是有目共睹的,芯片制造业也成为了“爆款”产业。这样一来芯片的生产量开始大幅度上涨,今天我们要了解的就是芯片生产中的超纯水制造。

  芯片生产离不开清洗用水——超纯水的制造。

  芯片生产所需的清洗用水为电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm的超纯水。这种超纯水的制备过程比较复杂,为了达到芯片生产的用水要求,制备超纯水的设备需要经过严格的检测。

超纯水设备

  据了解,传统超纯水制备过程中通常采用离子交换树脂,此工艺需要进行树脂再生,既耗费物力又耗费人工。目前,为了更好地节省人工和耗材,人们开始采用RO反渗透技术和EDI相结合的工艺,从而来制备超纯水。

  目前这种超纯水设备与传统工艺相比,不仅投入的运行成本低且人工成本也是很低的,并且设备的整体集成化程度高、自动化程度高,遇故障可以实现立即自停,具有自动保护功能。而且该设备应用的膜技术,具有较高的溶质分离率和透过率,可以高效产出高品质超纯水。

  综上,我们了解到,超纯水设备出水电导率可达18.2mΩ,大大的满足芯片行业用水需求,是该行业清洗用水的重要保障。