超纯水设备结合膜分离技术，应用于芯片生产中

　　随着电子工业的发展,在芯片的生产加工过程中,对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路,除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外,高纯水也是其中关键的因素之一。

　　高纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。超纯水系统总体来说一般可分为三个部分:超纯水制造区(CUB部分)、超纯水抛光循环区(FAB部分)、超纯水输送管网(FAB各使用区)。

　　其中超纯水制造区复杂，其又可分为：预处理、一次纯水处理、超纯水处理三个部分。预处理部分主要包括：沙滤、活性碳塔(有的厂商在沙滤前还增设反应槽、气浮池);一次纯水处理部分主要包括：阴阳离子交换塔、脱气塔(DG)、保安过滤器、紫外线杀菌器及多级反渗透;超纯水处理部分主要包括：MDG(脱氧膜组)、TOC-UV杀菌器、混床(MB)及终端过滤器。

　　考虑到在向工艺设备输送高纯水过程中，输水管道会对水质再次造成污染，因而在FAB内一般都设立抛光循环系统。抛光循环系统主要以MB为核心，再加上超滤设备(UF)，以除去在向工艺生产线输送纯水的过程中，管网溶入水中的杂质。

　　莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合的工艺来制取超纯水，该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长)，运行可靠。出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于我国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。