半导体工业重要的电子化学试剂 超纯水

　　随着半导体工业技术的快速发展，对超纯水的要求和标准也在不断提高，特别是对于线宽较小的集成电路，几个金属离子或灰尘颗粒就足以报废整个电路。超纯水作为半导体工业中重要的电子化学试剂之一，广泛应用于半导体和化合物半导体设备的制造，其生产制备越来越受到重视。

　　目前，在市场上常见的超纯水工艺中，离子交换工艺已被反渗透工艺所取代。反渗透工艺无需树脂再生，可实现24小时连续产水，且制水生产过程中无废酸、废碱排放。莱特莱德的超纯水设备搭载Ryperm技术的反渗透设备，提高硅和硼的去除率，提高系统的出水水质。

　　莱特莱德可以为用户提供更好的优品超纯水，解决传统超纯水生产过程中能耗大、步骤多、成本高、产品纯度低、产品质量不稳定的问题，实现连续大规模生产，工艺简单，配置合理有效，处理效率高，具有经济环保优势，确保生产水质达到国标《电子级水》和美标《电子和半导体超纯水质标准》。

　　工艺流程：

　　原水进水→UF装置→一级RO→二级RO→TOC装置→EDI系统→氮封系统→TOC装置→脱气系统→靶向离子交换→终端过滤→用水点

　　莱特莱德采用独特的靶向离子交换系统，定向去除超纯水中难以处理的硼等离子体，确保出水硼离子稳定≤5ppt。系统集成度高，双操作系统，系统稳定性高。高纯度超纯水可连续稳定生产，无需因树脂再生而停机。设备日常维护简单方便，设备耐用，使用寿命长。