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“双循环”背景下超纯水设备提供行业发展“芯”动力

2022-07-26

　　根据《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十四个五年规划和二〇三五年远景目标的建议》，中国应加快建设以国内大循环为主体、国内外双循环相互促进的新发展模式，促进国家治理体系和治理能力现代化，实现经济稳定、社会稳定和谐，为全面建设社会主义现代化国家开辟良好的开端。

　　芯片生产所需的硅片在使用前必须彻底清洗。一块8英寸的硅片可以生产大约100块芯片，需要2000加仑的超纯水才能达到所需的纯度。芯片设备和材料国际公司估计，2007年生产了1730万英寸的硅片，消耗的超纯水足以填满50万个奥运游泳池，这也从另一个方向反映出了芯片行业对于超纯水的需求量巨大。

　　莱特莱德超纯水设备采用反渗透工艺，或是采用反渗透后面再经过离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床来制取超纯水，确保出水水质符合行业标准，满足芯片行业的水需求，为行业提供动力。

　　从发展前景来看，芯片产业的现状不言而喻。在“双循环”的背景下，国内集成电路产业的快速发展并不能完全满足日益增长的市场需求。未来，随着优惠政策和生产技术的改进，原材料和设备的自给自足率将继续提高。与此同时，全球芯片产业将像国内转移一样促进产业链的发展。我国集成电路产业前景广阔，市场规模不断扩大。

“双循环”背景下 超纯水设备提供行业发展“芯”动力