EDI超纯水在半导体行业厚积薄发，生根发芽

　　EDI是电去离子净水技术的简称，是一种将电渗析和离子交换相结合的脱盐新工艺。利用混床离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时这些被吸附的离又在直流电压的作用下分别透过阴阳离子交换膜而被连续去除的过程，EDI超纯水设备可对水进行提纯。

　　EDI超纯水设备操作简便、无污染，是清洁生产技术，在微电子工业、电工业、医药工业、化工工业和实验室等领域得到日趋广泛的应用。

　　如今，EDI超纯水在电子芯片领域应用广泛。芯片生产的难度很大，其中十分重要的一个环节就是清洗，如果不能保证芯片生产各个环节的清洗用水质量，就很难保证芯片生产的良品率，因此芯片生产用水十分重要。芯片生产一般用超纯水，而不是普通的自来水。

　　半导体工厂生产和清洗半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示器、高精度电路板、光电器件等各种电子器件的时候,都需要用到电阻率为18兆欧以上的超纯水,这样的超纯水几乎不导电,不会影响电子产品的性能,同时水中几乎不含金属离子,不会对复杂芯片表面造成划痕或者不可逆的影响。当集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也就越高。

　　超纯水的制备工艺大体分为预处理、初级制备和抛光处理三个步骤。整个制造过程中采用的工艺技术复杂而精细,不容偏差,制备难度涉及至少18个关键工艺环节。

　　伴随芯片市场的崛起,也为超纯工艺技术企业带来广阔的机遇与挑战,高频科技不断探索超纯水的绝对纯度。专业处理工艺环节不断提升超纯水系统的应用效率,不断满足半导体行业日趋提升的用水需求,并以此塑造了强大的行业技术壁垒,在国内超纯工艺领域中厚积薄发,生根发芽。