超纯水技术成为电子行业发展的重要基石

　　迄今，能源、材料和信息被认为是新兴新技术革命的三大支柱。在材料方面，电子材料的发展尤为引人注目。划时代的半导体生产新技术、新材料、新仪器不断涌现，迅速成为生产力和生产工具，在一定程度上促进了集成电路产业的快速发展。

　　半导体工业在生产过程中需要大量的清洗水。随着半导体工业的不断发展，对清洗水的电导性、离子含量、TOC、DO、Particles的要求也越来越严格。由于半导体超纯水对多项指标的要求较高，超纯水不同于它他行业对水的要求，半导体行业对超纯水的水质要求较为严格。目前，我国常用的超纯水标准是国家标准《电子级水》(GB/T1446.1-2013)和美国标准《Standardguideforultra-Purewartertertelecteronicteronictonictenducterinductes》(Astm-D5127-13)。

　　超纯水设备可连续稳定地制备优质超纯水，水质稳定在ppt水平，特别是硼离子可≤5ppt，可更好地帮助半导体企业的发展，形成更强的企业竞争力。

　　超纯水设备采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，设计成熟、可靠、自动化程度高，保证处理后出水电阻率达到18mΩ。CM以上。EDI处理装置废水产量少，不会污染环境，具有很高的环境效益和经济效益。经过技术升级，精混床无需任何操作即可稳定运行两年。其出水水质能满足芯片生产用水的相关标准，降低企业生产风险和成本。在莱特莱德EDI超纯水设备的大力支持下，半导体行业的繁荣将继续上升。