硅片清洗用水生产少不了超纯水设备

　　半导体材料和设备作为半导体产业链上游的产业，属于芯片制造和封装测试的支撑产业，因此常被称为整个行业的“卖铲人”。作为半导体材料的大宗产品，90%以上的半导体产品由硅片制成，因此市场需求非常大。2021年全球半导体硅芯片出货面积将达到142亿平方英寸，市场规模将达到140亿美元。(数据来源：贤集网)

　　硅片清洗是生产的重要组成部分。同时，应使用无杂质的超纯水进行清洗。超纯水设备出口电阻率高，无杂质，无导电性。在硅片清洗超纯水设备的设计中，采用了两级反渗透和EDI相结合的制水工艺，具有水利用率高、运行可靠、经济合理的特点。与传统方法相比，该工艺具有以下优点：

　　1、再生不需要再生化学品。EDI超纯水设备在运行过程中不需要添加任何化学品，降低了系统运行成本。

　　2、不需要中和剂。EDI超纯水设备运行期间，不会产生酸碱废液，因此不需要酸碱中和槽。通常，EDI超纯水设备产生的浓缩水可以完全回收。

　　3、整个系统的运行成本低。EDI超纯水设备主要消耗电力来维持系统运行，其功耗低于传统的混床工艺。

　　4、水资源利用率高。与混床工艺相比，EDI超纯水设备的利用率可达95~99%，有效提高了水资源的利用率。

　　5、EDI超纯水设备无需更换树脂即可连续工作，无需人工操作，自动化性能强。

　　6、EDI超纯水设备设计紧凑，占地面积小，安装方便。

　　随着国家政策支持力度的不断加大，硅片行业对超纯水的需求也在不断增加。莱特莱德超纯水设备出水电导率高达18MΩ·CM(25℃)。我们的目标是为用户提供高品质的超纯水设备和实用解决方案。