硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程

　　硅片切割清洗用超纯水设备主要采用预处理装置、反渗透系统、超纯化处理以及后处理等组成，该工艺可以将水中的导电介质完全去除掉，出水电阻率可以达到18兆欧以上。硅片切割清洗用超纯水设备针对硅片切割用水要求设计，受到用户的广泛认可。

超纯水设备

　　硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程

　　1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

　　2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

　　3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

超纯水设备

　　硅片切割清洗用超纯水设备特点

　　1、零部件均采用进口产品，技术先进。

　　2、质量可靠，整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。

　　3、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　4、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　5、能耗低，水利用率高，运行成本低。

　　6、结构合理，占地面积少。

　　7、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　8、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

　　9、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

超纯水设备

　　莱特莱德公司多年以来一直致力于发展水处理行业，采用国外先进的技术并结合我们独特的工艺设计，根据客户的具体的要求，为客户设计出满足他们自身需求的超纯水处理设备，产品性能安全稳定。

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