电子行业超纯水设备工艺流程简介

　　电子行业对水中的离子含量要求非常高，我公司经过多年的工程经验以及对国外先进的技术融合，结合尖端的EDI，核子级混床技术，使产水水质可达18.25兆欧，水质符合美国ASTM标准。目前我国电子工业部把电子级超纯水系统水质分为五个行业标准，分别为18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm，以区分不同水质。

超纯水设备

　　电子行业超纯水设备技术参数

　　系统产量：≥0.5T/H

　　系统水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级

　　电子行业超纯水设备工艺流程

　　1、0.5~1MΩ•cm工艺流程：

　　预处理→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→用水对象

　　2、2MΩ•cm工艺流程：

　　预处理→一级反渗透→混床→纯水箱→纯水泵→用水对象

　　3、10~15MΩ•cm工艺流程：

　　预处理→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→用水对象

　　4、18MΩ•cm工艺流程：

　　预处理→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→精制混床→用水对象

超纯水设备

　　电子行业超纯水设备主要特点

　　该系统一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能，可实现无人值守。

　　系统结构布置紧凑，有效节约空间。

　　系统能耗低，制水成本低廉。

　　系统运行安全可靠，供水管路封闭，出水水质稳定。

超纯水设备

　　电子行业超纯水设备适用范围

　　生产半导体、光伏太阳能、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统。

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