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集成电路生产用超纯水设备的优点

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2016-01-27 14:10:16

  集成电路生产用超纯水设备依据集成电路用水需求,采用反渗透技术和EDI技术相结合,经过反渗透技术过滤掉水中的大部分杂质,再经过EDI深度处理,完全去掉水中的导电离子,出水电阻率可以达到18兆欧以上,完全满足集成电路生产用水需求。

超纯水设备

  集成电路生产用超纯水设备工作原理

  供给原水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜外的离子,SHU脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。

超纯水设备

  集成电路生产用超纯水设备的优点

  1、连续运行,产品水质稳定。

  2、EDI无需配碱再生,节能环保。

  3、节省了反冲及清洗用水。

  4、以高产率产生超纯水(产率可高达95%)。

  5、无需酸碱储备及酸碱稀释运送设备。

  6、使用安全可靠。

  7、减低运行及维修成本。

  8、安装简单、操作简单。

超纯水设备

  超纯水设备应用场合

  1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

  2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

  3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

  4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

  5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

  6、晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制。

超纯水设备

  集成电路生产用超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点,已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。

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