集成电路生产用超纯水设备的优点

　　集成电路生产用超纯水设备依据集成电路用水需求，采用反渗透技术和EDI技术相结合，经过反渗透技术过滤掉水中的大部分杂质，再经过EDI深度处理，完全去掉水中的导电离子，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足集成电路生产用水需求。

　　集成电路生产用超纯水设备工作原理

　　供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，SHU脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。

　　集成电路生产用超纯水设备的优点

　　1、连续运行，产品水质稳定。

　　2、EDI无需配碱再生，节能环保。

　　3、节省了反冲及清洗用水。

　　4、以高产率产生超纯水(产率可高达95%)。

　　5、无需酸碱储备及酸碱稀释运送设备。

　　6、使用安全可靠。

　　7、减低运行及维修成本。

　　8、安装简单、操作简单。

　　超纯水设备应用场合

　　1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

　　2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

　　3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

　　4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

　　5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

　　6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制。

　　集成电路生产用超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。