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半导体清洗用超纯水设备工艺流程说明

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-12-11 17:08:47

   现代人生活天天手中不离电子产品,近年来,随着中国科技发展迅速,其中电子行业是科技发展主力军,电子行业中半导体占有重要位置。半导体清洗用超纯水设备主要应用在电子行业半导体清洗中,其出水水质均能达到国际半导体清洗用超纯水标准。

  半导体清洗用超纯水设备工艺流程

  半导体清洗超纯水设备整套工艺流程相当严谨,所以这就需要每个工序点配合默契。原水进入半导体清洗用超纯水设备后首先进入南方泵加压,加压后原水进入系统预处理装置,预处理过后通过反渗透水处理装置,此时的水可以作为纯水来使用,最后需经过过滤器进行深度过滤,使出水达到要求。

  电子行业发生的变化给人们日常生活带来巨大影响,电子产品最不可缺少的配件半导体越来越受到人们关注。电子行业超纯水设备对电子元件主要的生产起着至关重要的辅助作用。电子行业超纯水设备中的RO膜孔径小至纳米级,采用双级反渗透之后出水标准超过国家半导体清洗用超纯水标准。设备出水水质最高可达18.2兆,废水的回收率可以达到80%到90%以上。