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多晶硅超纯水设备为多晶硅清洗过程提供优质超纯水

文章出处:作者:发表时间:2013-10-07 10:41:54

  多晶硅片,半导体器件等清洗过程中所需的纯水需要符合国家《电子级水质标准》18.2兆以上,目前最有效的制水工艺就是预处理加反渗透加EDI技术工艺。

  多晶硅超纯水设备工艺详细说明

  即预处理采用盘滤过滤器+超滤工艺,除盐采用二级反渗透+EDI工艺使産水电阻率达到15MΩ.cm以上,终端供水采用变频供水泵+二级精精混床+终端超滤膜使産水电阻率达到18.2MΩ.cm,经处理后的产水水质达到《电子级水GB/T11446.1-1997 Ⅰ级》水质标准。

  超纯水设备关键技术EDI系电渗析(ED)与反渗透技术的有机结合,达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。在膜处理系统中,用做前处理的超滤一般使用直径1mm的中空纤维,以脱除原水中的悬浮物及胶体,UF用作前处理的最大问题是膜污染及膜孔堵塞,为此常在前面设置预过滤器,以去除大粒径悬浮物,在预过滤前加絮凝剂,如PAC(聚丙稀酸)可提高过滤水质,并降低膜阻力。对电厂锅炉补给水系统要求的溶氧量一般要求为0.3 mg/L以下,为此脱气膜应该在低于5.33Kpa(40TORR)的真空度下操作。控制系统采用工控机程控控制,可实现自动起停,加药及冲洗,自动监测各种运行参数,以便生产管理。

  多晶硅清洗用edi超纯水设备与同类产品的优势

  edi超纯水设备从设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI水处理工艺,预处理采用盘滤过滤器+超滤工艺,除盐采用二级反渗透+EDI工艺使产水电阻率达到15MΩ.cm以上,终端供水采用变频供水泵+二级精精混床+终端超滤膜确保处理后的超纯水水质电阻率达到18.2MΩ.cm,利用率高,运行可靠,经济合理。

  此套设备从技术上就采用国内外最流行的反渗透加EDI技术,且采用PLC+触摸屏控制,edi高纯水设备的运行自动化程度高,稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。