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电子工业纯水设备工艺流程说明

文章出处:作者:发表时间:2013-03-15 15:46:41

  电子行业等工业纯水工艺流程

    该工艺采用YRRO-ET系列电子超纯水设备,适用于计算机硬盘,集成电路芯片,半导体,显像管,液晶显示器,线路板等工艺用的纯水,超纯水。,采用世界上先进的美国反渗透元件,压力容器,高压泵设备,配以先进而又合理的预处理和后级处理备,生产出符合电子生产标准的水。控制部份采用进口PLC控制,可实现自动起停,加药,及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的存储和打印。

 

功能

    脱盐率高,运行压力低的进口超低卷式复合反渗透膜,产水水质优良,运行成本低廉,使用寿命长。 
    高效率,低噪音,品质优越的进口高压泵,减少能耗,降低运行噪声。 
    进口在线原水及产品水电导仪,PH表可随时监测水质情况。 
    进口在线产品水,浓水流量计可随时监测产品水量及系统回收率。 
    配置自动循环冲洗系统,以备膜污染后清洗之用。 
    快冲阀定时冲洗膜表面,降低膜污染速度,延长使用寿命。 
    TOC紫外线 装置可有效降低TOC90%
    膜脱气装置可使脱气后水中溶解的氧DO小于5ppb
 

运行参数

    单机出力:0.5M3/h-120M3/h
    
脱盐率:反渗透系统98%
    
操作压力:1Mpa-1.2Mpa
    
回收率:60%-80%
    
产品出水电阴率:16-18M
Ω.cm