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超纯水制备采用反渗透技术+EDI超纯水设备+抛光混床系统，其出水阻力可达18mΩ·cm(25℃)，具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等特点。...
超纯水是指电阻率为18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外几乎没有杂质，完全满足芯片生产用水需求。...
莱特莱德经常采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。...
电子晶圆行业超纯水设备现阶段正从晶圆的基本水平起，执行维护晶圆纯净度的岗位职责，不断平稳地制取达到晶圆生产制造需用的超纯水系统，产水量电导率可达18MΩ·CM(25℃)。...
莱特莱德EDI超纯水设备产出超纯水电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，可完全应用于芯片制造业。未来，不仅仅是科技时代，更是环保绿色的时代。...
莱特莱德超纯水设备采用EDI技术，减少污染，满足绿色环保工艺生产的特点，与其他同类产品相比，具有更高的性价比和设备可靠性，助力“点亮”中国“芯”。...
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