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莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置结合混床模块化设计工艺来制备超纯水，其出水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...
莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于我国国家电子级超纯水标准。...
莱特莱德超纯水设备采用双反+EDI+抛光混床组合工艺，能有效去除水中杂质，保证设备出水水质。...
超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。...
莱特莱德超纯水设备可在线检测和显示超纯水电阻率，模块化集成设计，安装方便，维护简单，占地面积小，外观设计美观。...
超纯水的制备过程通常采用四个主要步骤：预处理、反渗透技术、EDI超纯水设备和后处理。...
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