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EDI无需再生化学品的再生，运行成本低，EDI超纯水系统的自动化程度很高，连续工作，出水水质好且稳定，出水电阻率≥15MΩ·CM。...
超纯水的诞生可有效的去除了水中的杂质和悬浮物，电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)，帮助芯片、单晶硅、半导体等行业实现清洁生产。...
使用EDI超纯水系统时有一定的规则，用户需要遵守这些规则。首先，在使用设备时，不能立即进入工作状态。操作前必须预热并等待10分钟。然后，让我们看看EDI超纯水系统的维护和使用注意事项。...
莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置结合混床模块化设计工艺来制备超纯水，其出水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...
莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于我国国家电子级超纯水标准。...
莱特莱德超纯水设备采用双反+EDI+抛光混床组合工艺，能有效去除水中杂质，保证设备出水水质。...
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