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为了保证电子芯片的功能完好，在电子芯片清洗时使用超纯水可以确保芯片功能稳定，不发生损坏。...
超纯水设备应用反渗透工艺和EDI系统相结合的工艺来制取超纯水。该设备出水电阻率可达16 MΩ*cm(25℃)，具有环保、经济、发展潜力巨大等诸多优势。...
超纯水设备还能够将水中不离解的胶体物质、气体去除至很低的程度，同时还配备浓水置换技术，防止设备中应用到的膜元件受到微生物污染，影响整体出水水质。...
应用专业的超纯水设备即可产出超纯水，如今半导体行业常用的就是应用反渗透工艺加EDI系统相结合的超纯水设备来制取超纯水。该设备出水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃)，具有环保、经济、发展潜力巨大等诸...
超纯水设备采用了独有的靶向离子交换系统，能够针对超纯水中难处理的硼及其他离子实行定向去除，有力保证了出水硼离子能够稳定≤2ppt。...
超纯水设备的EDI处理装置废水产出量少，不会对环境造成污染，具有非常高的环境效益和经济效益。精混床经过技术升级后，无需任何多余操作即可稳定运行，出水水质可以满足芯片生产用水的相关标准，降低企业...
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