超纯水——没有它，有光刻机也造不出芯片

　　你可能不知道，芯片是洗澡洗出来的。在芯片制作的过程中，光刻机是非常重要的一个设备，没有光刻机将无法正常生产芯片，而光刻机在全球都是垄断地位的。虽然光刻机如此重要，但是，没有它也造不出芯片。

　　芯片的制造条件十分苛刻，芯片制造有上千道工序，即使保证每道工序的良品率是99%，那么在上千道工序的累计下，芯片的总良品率一定会惨不忍睹。所以，在芯片制造的过程中，有30%的时间都在做一件事情，就是“洗澡”，专业名词叫湿法清洗。

　　当然，给芯片清洗的水不能是自来水，因为自来水里的金属离子会影响硅片的阈值电压，溶解气体会干扰硅片的氧化覆膜，细菌有机物会导致硅片短路漏电。因此，需要用超纯水对芯片进行清洗。

　　清洗步骤贯穿芯片制造过程中的许多工艺环节。清洁技术将持续到芯片开发完成为止。早在20世纪50年代，半导体制造业就开始关注清洗技术，其重要性将越来越高，市场需求将越来越大。随着工艺技术的进步，光刻和各种工艺的数量激增，清洗步骤的数量也增加了。根据统计数据，80nm～60nm工艺清洗步骤约100个，20nm～10nm工艺清洗步骤200多个。由此可见，超纯水对芯片来说是多么重要。

　　全自动双级反渗透+EDI超纯水系统+抛光混床是目前常用的超纯水处理技术，EDI超纯水系统是超纯水生产设备的重要组成部分。到目前为止，一些厂家仍然使用混床生产超纯水。混床超纯水系统优点是前期投资少。但是，EDI超纯水系统的突出性能优势是无法替代的。与混床相比，在相同流量处理能力的情况下，EDI超纯水系统占地面积要小得多，约为混床的1/10。这种对用户友好的设计是通过消除巨大的再生存储和废水中和系统来实现的。