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二级反渗透配合N2真空膜脱气技术去除水中胶体物质

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-11-22 14:21:11

   现在不论是大型公司还是小型电子公司,都在应用超纯水系统,目前新开发出工艺将二级反渗透 和 N2 配合真空膜脱气在加上三级混床结为一体,我国近三年来对这项工艺不断进行改造与探索,通过高纯水的检测在超纯水设备中成功稳定运行,同时降低应用成本,随着在电子行业日益突出,纯水出水质量严重影响电子产品质量,如果出水没有达到要求,就会增加返厂率,给电子生产商厂家名誉带来一定损坏,对纯水要求越高,越能提高产品质量。

  电子行业发展迅速,提高了对深圳EDI超纯水要求,应用工艺也历经了几个阶段,包括离子交换技术为主工艺以及膜技术发展与形成。

  中国电子行业一级水、二级水、三级水用水标准:

1级水>10MΩ;2级水>1MΩ;3级水>0.2MΩ

PH值范围(25℃) - - - - 5.0-7.5

比电阻MΩ.cm@25℃> 10 1 0.2

电导率(25℃)us/cm≤ 0.1 1 5

可氧化物[O]mg/L -- 0.08 0.40

吸光度(254nm,1cm光程)≤ 0.001 0.01

二氧化硅(mg/L) 0.02 0.05

蒸发残渣(mg/L) -- 1.0 2.0

  近几年来,随着LCD液晶显示器的发展,对电子级制造用到磷酸需要也与日俱增,精细磷化工已成为我国磷酸工业发展必然趋势。电子级磷酸主要应用在反渗透 edi超纯水领域,不仅如此,我国还应加强配套技术并研发。

  我国目前半导体芯片制造业也随着液晶显示器发展而发展起来,可以说,已经成为全球大生产商之一,在制造与生产过程中用超纯水(高纯水)是指将水中导电介质几乎全部去除,又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。高纯水的含盐量保证在0. 3mg/L以下,电导率小于0. 2μs/cm即可。

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