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半导体电子工业发展推动EDI水处理技术飞速进步

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-11-20 16:28:49

   超纯水出现是由于早起发电、医药、化工以及造纸行业用水需求,当时对于超纯水水质要求还相对较低,但随着科技迅猛发展,电子工业、食品工业、轻工业、航空航天业也逐渐开始需要超纯水帮忙,并且需求量日趋增大,与此同时对超纯水水质有人提出高要求,特别是大规模集成电路设计工艺对超纯水水质提出更严苛的要求。

  从二十世纪初期到目前,超纯水制备工艺发生了翻天覆地的变化,变化图如下:


  最初,工业用超纯水制备用的方法是蒸馏法,蒸馏法制备的超纯水水质不好,并且工艺消耗物数量较大,不久便被随之出现的离子交换技术替代,虽然后者出水质量有所提升,但是该技术需要化学药剂再生过程,这样会造成环境污染,也逐渐被人们摒弃。

  进入五六十年代后,半导体电子工业发展迅速,有力推动了edi超纯水设备发展,在这同时,膜技术出现使水处理技术再次进入一个新的台阶,混床技术从根本上解决了TOC含量大问题,这时edi超纯水设备产水质量已经可以满足电子行业用水要求,最后出现的edi水处理技术不仅从实质上解决了环境污染问题,还在这些基础上得到了更高的出水质量,水处理行业发展近20年,edi水处理技术取得了飞速发展,不仅在半导体电子工业得到认可,在其他领域也成为了代替膜技术制备超纯水的主要方法。

  近些年,人们对节约资源以及环保处理意识提高,特别是对水资源节约保护的意识提高,人们不仅要求用水水质能满足饮用需求,还要求水质满足更多工业领域用水要求,在这同时,超纯水工艺中出现的一些不必要的浪费以及污染等需要研究和改进,这些因素都推动着超纯水技术不断前进。

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