电子工业制水技术方案及水质需求标准
在电子,半导体行业中零件生产过程中需要大量的纯水,如水质没有达到相应的标准,则会对电子器件的品质产生影响,因此注重水质标准极为重要。
一般在沈阳电子超纯水设备中,都通过使用超滤、反渗透、EDI和核子级离子交换系统来生产满足需求的超纯水。并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再利用,在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本。
微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、电子新材料生产等生产工艺,都需要工业超纯水。传统化学及介质过滤生产超纯水的方法,会因在水中添加各种化学剂,制备过程冗长等各种因素造成产水的不稳定,无法确保长期、稳定的超纯水。
采用物理净化法(超滤→反渗透→EDI→抛光混床),使超纯水制备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命,从此进入了一个无需再生化学品的时代。电子超纯水系统膜法制备出来的工业纯水,其纯度可达到18MΩ·CM。
电子工业高纯水水质标准
项目 级别 |
比电阻 MΩ.cm@25℃ |
硅 ≤ μg/L |
>1μm微粒数 < 个/ml |
细菌个数< 个/ml |
铜≤μg/L |
锌≤μg/L |
镍≤μg/L |
钠≤μg/L |
钾 ≤ g/L |
氧≤ μg/L |
硝酸根≤ |
磷酸根≤ |
硫酸根 ≤μg/L |
总有机碳≤μg/L |
EW-Ⅰ |
18(95%的时间不低于17) |
2 |
0.1 |
0.001 |
0.2 |
0.2 |
0.1 |
0.5 |
0.5 |
1 |
1 |
1 |
1 |
20 |
EW-Ⅱ |
15(95%的时间不低于13) |
10 |
5 |
0.1 |
1 |
1 |
1 |
2 |
2 |
1 |
1 |
1 |
1 |
100 |
一般在电子行业所需的超纯水水质都需要符合上述标准,由反渗透技术+EDI技术组合而成的沈阳电子级超纯水设备,非常适用于电子行业纯水的制备。